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提高表面粘接、涂層附著力

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晶圓光刻膠怎么去除干凈-深圳金徠
來(lái)源: | 作者:深圳金徠 | 發(fā)布時(shí)間: 1492天前 | 1630 次瀏覽 | 分享到:

  光刻膠又稱光致抗蝕劑,由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力,使光刻膠具有良好的流動(dòng)性和覆蓋。感光樹脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng),使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。

  光刻膠通過(guò)曝光、顯影和刻蝕等方式在每一層結(jié)構(gòu)面上形成所需要的圖案。在進(jìn)行后一層處理時(shí),需要將前一次使用后的光刻膠完全去除。
  由預(yù)先定義好的圖形把不要的局域去除,保留要留下的區(qū)域,將圖形轉(zhuǎn)移到所選定的圖上的過(guò)程需要等離子處理。深圳金徠等離子去膠機(jī)可以將很深洞中或其他很深地方將光刻膠的殘留物去除。

  光刻膠傳統(tǒng)的去除方法:濕化方法去除晶圓表面的光刻膠存在反應(yīng)不能控制,清洗不徹底,容易引入雜質(zhì)等缺點(diǎn)。
  作為干式方法的等離子清洗機(jī)可控性強(qiáng),一致性好,用深圳金徠等離子去膠機(jī)不僅徹底去除光刻膠和其他有機(jī)物,而且活化晶圓表面,提高晶圓表面浸潤(rùn)性。只需要通過(guò)等離子清洗設(shè)備的簡(jiǎn)單處理,就能將自由基將高分子聚合物完全清除干凈,包括在很深且狹窄尖銳的溝槽里的聚合物,達(dá)到其他清理方式很難完成的效果。
上述所講解的就是晶圓光刻膠怎么去除干凈,希望看完能夠?qū)δ兴鶐椭绻胍私飧嚓P(guān)于等離子清洗機(jī)的相關(guān)信息,歡迎繼續(xù)瀏覽深圳金徠網(wǎng)站!
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